Un recurso de suma importancia y de uso intensivo en los procesos de micro fabricación es el agua. La manufactura de dispositivos microelectrónicos, en su forma más conceptual, consisten en el apilamiento de una serie de capas de distintos materiales con un patrón específico. La delimitación de cada uno de estos patrones involucra la sucesiva colocación y remoción de resinas poliméricas (fotoresinas) y otros materiales por medios principalmente acuosos. De forma similar a como ocurría con el aire en un cuarto limpio, el agua debe de ser tratada antes de ser utilizada en estos procesamientos para asegurarse que no contenga impurezas disueltas que pudieran producir fallas durante la fabricación de los chips de escala micrométrica. El grado de purificación de agua para este tipo de aplicaciones se conoce como agua desionizada (DIW, por sus siglas en inglés), que como su nombre lo indica, se trata de agua a la cual se le han removido los iones (también conocidas como sales disueltas) tales como los cationes Na+1, Ca+2, Cu+2, Fe+3 y algunos aniones como el CO3-2, F-1, Cl-1 entre otros componentes a por medio de medios físicos de filtrado como es la osmosis inversa. La forma convencional de cuantificar la calidad de purificación es a través de mediciones de resistividad del agua, que a menor cantidad de sales disueltas, mayor resistividad eléctrica. El valor de referencia que se suele tomar es una resistividad igual o superior a 18 MΩ‧cm. Si bien es cierto que la industria electrónica requiere de cantidades de agua significativas, se debe de considerar que actualmente operan compañías con consumos de agua similares e incluso notablemente superiores en el territorio nacional. Por mencionar algunas empresas con consumos muy significativos de agua, se tiene una empresa papelera con un consumo anual de 14.19 millones de m3, una empresa textil con 5.77 millones de m3, una empresa de cartones con 3.5 millones de m3 por año, entre otras. Para contrastar esta cifras, una planta de manufactura de semiconductores de pequeña a mediana escala suelen requerir entre 2.75 y 5.51 millones de m3 por año; lo cual no resulta especialmente demandante en comparación con otras industrias. Aunado a lo anterior, el procesamiento en la industria electrónica suele involucrar tratamientos empleando ácidos y bases diluidos en agua, que generan residuos que pueden ser fácilmente neutralizables. Una vez que se han neutralizado y tratado, las aguas pueden devolverse al suministro público, minimizando muy significativamente el impacto a las demandas de la población. La industria electrónica, siempre preocupada por estar a la vanguardia en sus procesamientos ha hecho grandes esfuerzos por reducir su impacto ambiental y más específicamente reducir el consumo de agua en sus procesamientos. Un ejemplo de lo anterior se puede ver en el programa implementado por Intel en su planta de Chandler Arizona, que recicla un promedio de 4 millones de galones de agua al día por medio del proceso de osmosis inversa, permitiendo devolverla a la red de agua municipal. A través de estos esfuerzos, Intel estima que ha reducido su consumo de agua del suministro municipal en un 80%. Se estima que para cubrir las necesidades de agua de una planta de microfabricación pequeña (aproximadamente 500 m2) se tendría un consumo mensual de 1,000 m3. En la fabricación de semiconductores se utilizan diariamente millones de litros de agua, tanto para aplicaciones de proceso como para las que no lo son. Se trata de una cuestión costosa y que, además, está ganando interés medioambiental. La industria de los semiconductores se ve obligada a reutilizar cada vez más el agua, pero no es una tarea fácil.